Литография со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV) способна заметно удешевить производство 7-нм и более совершенных полупроводниковых компонентов, поэтому санкции США против Китая направлены на ограничение доступа последней из стран к таким технологиям. Как выясняется, китайские производители оборудования создают свои решения для работы с EUV. Источник изображения: ASML Во всяком случае, об этом позволяет судить патентная заявка […]
Архивы за день Ноябрь 23rd, 2025
SMEE стала на шаг ближе к созданию суверенных китайских EUV-сканеров — они нужны для выпуска передовых чипов
Ноябрь 23rd, 2025 
raven000 
Опубликовано в рубрике 
